第292章 nm光刻机突破近在咫尺

中微公司的工程大楼内，正在进行关键的技术评审会。

来自全国各地的半导体专家齐聚一堂，对28nm光刻机工程样机的核心部件进行评估。

“光学系统的测试数据令人瞩目。”

威廉姆斯博士指着屏幕屏幕说道，“分辨率稳定控制在28nm，偏移精度达到±3nm，这些指标都达到了设计要求。

但在系统稳定性方面还有提升空间。”

“具体是哪些问题？”

李一凡问道。

他特意来参加这次评审会，因为这关系到整个项目的推进。

“主要在两个方面。”

威廉姆斯说，“一是光强均匀性还不够理想，在大视场范围内有微小波动；二是对环境温度的敏感度偏高，需要更精密的控制系统。”

中微公司董事长尹志绕插话道：“这些问题在工程阶段是可以的。

我们已经和南大光电的团队讨论过，准备通过调整光刻胶的参数来补偿这些偏差解决。”

“没错。”

王立新说，“我们最新研发的光刻胶具有增强的工艺耐受度，可以在一定程度上弥补光学系统的不足。

这就是良好创新的优势。”

这时，一位来自中科院的专家提出疑问：“光刻胶的工艺窗有多大？在量产环境下能否保持稳定？”

“这就是我们最近的突破点。”

王立新调出一组实验数据，“通过优化配方，将工艺窗口扩大了30%。

在标准环境下，曝光剂量和曝光时间都出现了更大的调节空间。

这对提升良率很关键。”

李一凡注意到专家们对这一进展非常感兴趣。

他知道，工艺窗口的大小与量产的吸力有直接关系。

“系统集成方面的进展如何？”

中科院的专家继续提问。

“已经完成了六个核心模块的组合。”

威廉姆斯说道，“现在最关键的是光学系统和机械系统的配合。

为此我们专门开发了一套新的控制算法，可以实时补偿机械振动带来的影响。”

技术总监詹姆斯补充道：“这套算法的创新点引入了人工智能技术。

通过机器学习，系统能够自动识别和修改各种托盘刻源。

这在全球的光机领域都是首创。”

“标准化确实是个好办法。”

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