第263章 半导体突破

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哥，中微公司14nm刻蚀机的首批订单准时交付了。

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凡星投资总裁李明杰兴奋地说，"

台积电非常满意，经过三个月的设备运行，各项指标都符合预期，准备追加30台订单。

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李一凡正在半导体产业园调研。

自从3月份14nm刻蚀机通过台积电测试以来，中微的发展进入快车道。

这个由凡星投资控股51%的企业，正在用实力证明中国半导体产业的创新能力。

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设备运行情况具体怎么样？"

李一凡问道。

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各项指标都达到预期。

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中微董事长尹志尧汇报说，"

刻蚀均匀性控制在±1.5%以内，良品率超过95%。

特别是在关键技术指标上，部分参数甚至优于同类产品。

研发团队已经在为下一代产品做准备。

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杨思涵博士向李一凡详细汇报了eda软件的应用情况。

这套具有自主知识产权的芯片设计工具已经在14nm制程工艺的研发过程中得到充分验证。

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从2008年回国至今，我们团队一直专注于eda软件研发。

现在这套系统在电路设计和验证环节的表现相当出色，特别是在14nm节点的设计验证方面，显着提升了研发效率。

这为我们后续的技术突破奠定了坚实基础。

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中微芯片研发组组长许思华也带来好消息。

作为前arm架构设计经理，他对芯片设计有着深刻理解。

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在自主eda工具的支持下，我们的芯片设计团队研发进展顺利。

已经完成了几款专用芯片的设计工作，性能指标达到预期。

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正说着，长鑫存储董事长朱一明匆匆赶来，带来了更多好消息：二期项目的48家配套企业全部投产，从晶圆制造到封装测试，从设备到材料，完整的产业链已经形成。

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