第15章 光刻胶的量子迷雾

马文博的腰弯成了九十度，话音在寂静的实验室里回响，每一个字都砸在众人心头。

龙国纳米科学中心主任，申请给一个三岁奶娃当助理？

世界观的碎片，在每个人的脑海里噼啪作响。

然而，作为风暴中心的林天，却只是仰着小脸，黑白分明的大眼睛看着马文博，然后伸出胖乎乎的小手，指了指那台刚刚被“魔改”

过的原子层沉积（ald）设备旁的光刻机。

“马叔叔，先别说这个。”

他的声音奶声奶气，却带着不容置疑的命令感，“7纳米，开始吧。”

一句话，将马文博从狂热的崇拜中拉回了现实。

他猛地直起身，眼神一凛，重重点头：“是！

林总工！”

他转身，气场全开，再无半分犹豫：“光刻组！

准备7纳米线宽曝光！

启动a-7号方案！”

命令下达，整个超净实验室瞬间变成了一台高速运转的精密机器。

身穿白色无尘服的工程师们迅速就位，气氛紧张到了极点。

这是龙国第一次，用自研的无机光刻胶，向7纳米制程发起冲击。

光刻机发出低沉的嗡鸣，极紫外光（euv）经过复杂的镜组，精准地投射在刚刚制备出的完美晶圆上。

几分钟后，第一份曝光样品被送入扫描电子显微镜。

控制室里，所有人都屏住了呼吸，死死盯着主屏幕。

图像缓缓清晰。

“失败了”

一名年轻工程师的声音带着一丝绝望。

屏幕上，所谓的7纳米线条，边缘模糊不清，布满了“毛刺”

和“晕染”

本章未完，点击下一页继续阅读